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日本理光thermo紅外線導入加熱裝置GV系列

日本理光thermo紅外線導入加熱裝置GV系列

產(chǎn)品型號：

所屬分類：

產(chǎn)品時間：2024-09-05

簡要描述：日本理光thermo紅外線導入加熱裝置GV系列
將樣品放置在各種氣氛中，例如超高真空或氣流中，并且精確地輻射紅外線以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。
它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。

詳細說明：

日本理光thermo紅外線導入加熱裝置GV系列

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將樣品放置在各種氣氛中，例如超高真空或氣流中，并且精確地輻射紅外線以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。

它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
Thermo Riko的主要型號。
 
 
快速升溫：gao加熱速度為150℃/ sec，1500℃持續(xù)約1min
清潔加熱：無需擔心熱源或電磁感應產(chǎn)生的氣體
局部供暖：僅用紅外光照射樣品，不加熱周圍區(qū)域
可附加：可以安裝在各種系統(tǒng)上
 
 
硅和碳化硅等樣品的高速加熱和退火
在氧化氣氛中形成氧化物晶體，形成薄膜
在氫氣或氮氣中加熱基材
X射線或UV照射期間樣品的溫度升高
解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等的加熱
磁場加熱，非磁場加熱
在加壓氣氛中加熱
通過對樣品施加載荷來加熱
 
 
　　　紅外線感應加熱裝置根據(jù)應用具有以下規(guī)格。 
  
　超高真空型支持　10 -9 Pa的超高真空。
　高速加熱型　大升溫速度為150℃/秒。
　常溫加熱型　可以對放置在大氣中的樣品進行點加熱。
　加壓氣氛類型　可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
　特殊規(guī)格　通過利用GV系列的功能，我們可以響應各種需求，例如快速冷卻，負載加熱和磁場加熱。
　請隨時與我們聯(lián)系。
　符合CE標志　我們還生產(chǎn)符合CE標志的規(guī)范。

原理圖

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　超高真空型GVH
 
型號名稱GVH198GVH298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　達到gao溫度1200°攝氏度1400°攝氏度
　加熱面積φ20毫米
　大加熱速度1℃/秒
　大極限真空5×10 -9帕
　冷凍水量1升/分鐘2升/分鐘
 
　高速加熱型GV / GVL
 
型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
　紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
　達到gao溫度1100°攝氏度1300°攝氏度1500°攝氏度1600°攝氏度
　加熱面積φ14毫米φ20毫米
　大加熱速度100°C /秒100-150°C /秒
　大極限真空5×10 -7帕
　冷凍水量1升/分鐘2升/分鐘
 
　加壓氣氛類型GVP
 
型號名稱GVP198GVP298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　達到gao溫度1200°攝氏度1300°攝氏度
　加熱面積 φ20毫米
　大加熱速度 100°C /秒
　大耐壓 1MPa以下
　冷凍水量1升/分鐘2升/分鐘
 


日本理光thermo紅外線導入加熱裝置GV系列 

  
 
 
  
快速退火紅外感應加熱系統(tǒng)GV1 / GV2
底部照射型紅外熱處理設備RTA198 / RTA298
熱脫附氣體分析儀GV2H
紅外感應加熱系統(tǒng)，用于在磁場中加熱樣品GVL298M / GV154M / GV-M 1
用于X射線形貌的紅外感應加熱裝置
XPS設備安裝示例
 
  
 
  
 
  
它由紅外線引入單元，多端口真空室，溫度控制器等組成，可以在高真空下對樣品進行超高溫加熱。
由于它具有許多端口，因此可以用于各種實驗。
 
可以進行干凈的加熱，并且可以通過打開和關閉真空室的前門來取出和取出樣品。
 
[應用]-
真空/氣體氣氛中樣品的連續(xù)升溫/降溫控制-樣品前
表面加熱/后表面冷卻的快速升溫/降溫測試（可選）
-加壓氣氛中的加熱（可選）
 
型號名稱GV1GV2
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　達到gao溫度1300°攝氏度1500°攝氏度
　加熱面積?φ20毫米
　大加熱速度100-150°C /秒
　大極限真空5×10 -5帕
　冷凍水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 
 
  
它由紅外線感應加熱裝置，小型真空室，溫度測量樣品部件和恒溫控制器組成。
 
通過用來自底部的紅外線在真空室中照射樣品，可以進行干凈的加熱和樣品的快速退火。
樣品室頂部的觀察窗可讓您在樣品升溫時對其進行觀察和拍照。
 
型號名稱RTA198RTA298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　達到gao溫度900-1000°C1000-1300°攝氏度
　加熱面積?φ20毫米
　大極限真空5×10 -3帕5×10 -5帕 
　冷凍水量1升/分鐘2升/分鐘
 
  
 
 
  
它由超高真空型紅外感應加熱設備，超高真空室，質(zhì)譜儀，電源/安全電路單元和真空排氣設備組成，并且可以對從高溫樣品中產(chǎn)生的痕量氣體進行質(zhì)量分析。 ..
 
紅外線源加熱裝置在真空室內(nèi)具有熱源，不產(chǎn)生氣體，可以進行干凈的加熱，并且可以進行高精度的分析。
 
型號名稱GV2H
　紅外燈額定值2千瓦
　達到gao溫度1500°攝氏度
　加熱面積φ15毫米
　大極限真空5×10 -6帕 
　目的地京都大學
 
 
 
  
也適用于在磁場中對樣品進行熱處理。
[特性]
-由于被光加熱，所以是干凈的加熱，不影響
樣品上的電磁感應。-只能精確地加熱樣品，不能加熱磁體
 
也可以在磁場中的真空/氣體氣氛中升高溫度。
它可以連接到各種電磁體和超導磁體上。
 
加熱后的樣品與可控氣氛的石英芯管一起插入磁體孔中。
當樣品溫度為1000℃時，孔的內(nèi)壁溫度為40℃以下。
 
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在高真空下進行X射線照射期間，樣品被加熱到超高溫。
（紅外線從左上對角線方向和右下對角線方向發(fā)出，X線從左水平方向上發(fā)出。）
 
真空室安裝在XY工作臺，旋轉(zhuǎn)工作臺和旋轉(zhuǎn)工作臺上，在加熱，保持或冷卻樣品的同時，可以從任何角度進行晶體結構分析。
 
型號名稱GVL298-2S
　紅外燈額定值2千瓦x 2
　達到gao溫度1500°攝氏度
　加熱面積φ20毫米
　大極限真空5×10 -4帕 
 
　交貨地點：Spring-8
 
 
  
大量的紅外感應加熱設備與各種分析儀結合使用。
 
 
這是在XPS上安裝GVL298類型的示例。
通過紅外輻射加熱樣品，以去除樣品中包含的水和氣體并進行清潔。
通過超高真空中的傳輸桿將樣品傳輸?shù)秸掌覀?cè)的XPS分析室，然后用X射線照射進行表面分析。
  
 
 
 
 
 


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